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離子刻蝕是利用眾所周知的陰極濺射效應對表面進行選擇性的剝離加工. 由于轟擊粒子小和離子刻蝕過程的計量極為精, 因此, 用這種方法加工表面, 使表面溶解深度在單原子層范圍內(nèi). 離子刻蝕可用來清洗, 拋光或進行薄刻蝕. 簡單的說利用離子轟擊作用, 對材料表面進行刻蝕的過程.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 系列已廣泛被應用于離子刻蝕 (IBE) 工藝.
伯東 KRI 離子源考夫曼離子源具有高離子濃度 (High beam currents) 及低離子能量 (Low beam energies). 此兩個特殊條件對于刻蝕效率及刻蝕中避免傷害到工件表面材質(zhì)可以達到優(yōu)化. 并且可以依客戶之工件尺寸選擇所對應之型號: , , , ,
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伯東公司為 Kaufman & Robinson, Inc (美國考夫曼公司) KRI 大中國區(qū)總代理.
伯東是德國 , , , , 美國 , 美國 , 美國 Ambrell 和日本 NS 等進口品牌的指定代理商.
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