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PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學電鍍的相同點是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。
兩者的不同點是：真空（PVD）鍍膜膜層與工件表面的結合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定；PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為廣泛，可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮；PVD鍍膜不會產生有毒或有污染的物質。表面進行真空離子鍍后可以大大的提高其耐磨耗、耐沖擊、耐腐蝕的能力，減少磨擦提高硬度
PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.1μm～5μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能，并能夠維持工件尺寸基本不變
PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點：
1 ．膜層與工件表面的結合力強，更加持久和耐磨
2 ．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復雜的工件
3 ．膜層沉積速率快，生產效率高
4 ．可鍍膜層種類廣泛
5 ．膜層性能穩(wěn)定、安全性高（獲得FDA認證，可植入人體