真空鍍膜機(jī)、鍍膜工藝、磁控濺射鍍膜機(jī)專利資料匯編

1、微機(jī)控制離子自組裝薄膜鍍膜機(jī)系統(tǒng)設(shè)計(jì)

　　研制了微機(jī)控制的全自動(dòng)離子自組裝薄膜鍍膜機(jī)，采用32位數(shù)據(jù)采集卡PCL733與PCL734來(lái)實(shí)現(xiàn)與微機(jī)的通信，采用Visual Basic語(yǔ)言開發(fā)計(jì)算機(jī)驅(qū)動(dòng)程序來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)設(shè)備中電機(jī)和電磁閥的有效控制，設(shè)計(jì)了應(yīng)用程序的操作界面，可實(shí)現(xiàn)離子自組裝全自動(dòng)鍍膜的過(guò)程。該設(shè)備可解決手工操作帶來(lái)的問(wèn)題，例如提高了成膜的效率；全封閉的鍍膜機(jī)能降低空氣中灰塵的影響，并減少人為因素的影響，提高鍍膜的質(zhì)量；友好的操作界面可提供鍍膜方案的存儲(chǔ)，方便批量生產(chǎn)相同特性的鍍件，提高重復(fù)性。鍍制工件可以是平片狀工件，也可是纖維狀工件?？刹捎靡环N、兩種或多種...........共95頁(yè)

2、三靶磁濺式真空鍍膜機(jī)電氣控制系統(tǒng)研究

　　真空鍍膜機(jī)是一種直流磁控反應(yīng)濺射鍍膜機(jī)，主要應(yīng)用于太陽(yáng)能真空管的制造過(guò)程。根據(jù)廠家工藝要求和技術(shù)參數(shù)，以PLC、觸摸屏作為硬件開發(fā)平臺(tái)，設(shè)計(jì)三靶磁濺式真空鍍膜機(jī)的電氣控制系統(tǒng)。工件旋轉(zhuǎn)和靶旋轉(zhuǎn)均采用模塊化的直流電機(jī)驅(qū)動(dòng)電路，通過(guò)PLC軟件程序?qū)崿F(xiàn)電樞降壓軟起動(dòng)。采用分子泵替代油擴(kuò)散泵，解決了鍍膜生產(chǎn)中油擴(kuò)散泵出現(xiàn)的返油現(xiàn)象，提高鍍膜質(zhì)量，降低了控制系統(tǒng)的功耗，節(jié)約電能90％以上。分子泵VVVF自適應(yīng)控制的速度閉環(huán)控制建立于真空室真空度的基礎(chǔ)上，從而有效解決了真空度穩(wěn)定和陡降之間的矛盾。首次獲得了與技術(shù)工藝參數(shù) ...........共68頁(yè)

3、真空鍍膜機(jī)摻氣源溫度控制模塊研究

　　以計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制超大容積汽車燈具鍍膜成套設(shè)備與鍍膜工藝研究為工程背景,通過(guò)對(duì)鍍膜機(jī)的控制任務(wù)和技術(shù)要求分析,應(yīng)用計(jì)算機(jī)控制技術(shù)、電力電子技術(shù)、通信技術(shù)、計(jì)算機(jī)仿真技術(shù)和可靠性理論,對(duì)其子系統(tǒng)摻氣源溫度控制模塊的設(shè)計(jì)作了論述.模塊實(shí)時(shí)智能化控制雙路摻氣源溫度在設(shè)定恒溫,鍍膜機(jī)工作時(shí)摻氣源與真空室體間形成的壓力將氣體壓入真空室體,室體中的氣分子作為電介質(zhì)協(xié)助完成鍍膜工藝.該文詳細(xì)論述了勢(shì)如破竹氣源溫度控制 ...........共85頁(yè)

4、真空鍍膜機(jī)卷繞系統(tǒng)空間軸系平行度研究

　　內(nèi)容如下：{dy}章簡(jiǎn)要介紹鍍膜機(jī)以與它的發(fā)展現(xiàn)狀；第二章討論了一些影響鍍膜機(jī)鍍膜質(zhì)量的一些關(guān)鍵因素和技術(shù)；第三章具體計(jì)算了卷繞系統(tǒng)中各輥軸的撓度和它們之間的平行度，并以此為根據(jù)優(yōu)化了放膜展平輥的設(shè)計(jì)。第四章用有限元法對(duì)卷繞系統(tǒng)中的各輥軸進(jìn)行分析。第五章利用光電測(cè)量原理提出了對(duì)平行度誤差進(jìn)行光電檢測(cè)的可行性研究，并建立了控制軟件系統(tǒng)的框架。研究的特點(diǎn)主要有以下幾個(gè)方面：1)根據(jù)平行度誤差計(jì)算結(jié)果，對(duì)放膜展平輥重新進(jìn)行了不同于傳統(tǒng)方法的設(shè)計(jì)，運(yùn)用后實(shí)際效果明顯。2)在對(duì)輥軸進(jìn)行有限元分析的時(shí)候，建膜和分析分別在不同軟件中 ...........共70頁(yè)

5、多功能鍍膜機(jī)研制與低維納米功能材料制備

　　設(shè)計(jì)制造了多功能磁控濺射鍍膜機(jī)。鍍膜機(jī)集直流磁控濺射沉積、射頻磁控濺射沉積、中頻孿生磁控濺射沉積、陰極磁過(guò)濾弧等離子體沉積、蒸發(fā)于一體。既可以沉積金屬、陶瓷、有機(jī)薄膜，還可以沉積超晶格、復(fù)合薄膜。Ⅱ.研究了反應(yīng)射頻磁控濺射制備氮化銅納米薄膜的霍爾系數(shù)。在室溫條件下，氮化銅薄膜的霍爾系數(shù)和霍爾電阻率隨氮?dú)饬髁康脑黾佣龃?，而霍爾遷移率和載流子濃度則減小。對(duì)同一條件下制備得到的氮化銅納米薄膜而言，在溫度從100 K到300 K的變化區(qū)間，薄膜的霍爾系數(shù)和霍爾電阻率降低，載流子濃度增加而霍爾遷移率基本保持不變。 Ⅲ.采用水 ...........共54頁(yè)

6、高真空磁控濺射鍍膜機(jī)溫度控制系統(tǒng)研究 

　　高真空磁控濺射鍍膜機(jī)的溫度控制在鍍膜過(guò)程中起著十分重要的作用，溫度控制的好壞直接影響到成膜質(zhì)量。本文研究了專家PID算法的原理和實(shí)現(xiàn)方法，并將其應(yīng)用到溫度控制系統(tǒng)中；就常規(guī)PID算法和專家PID算法在溫度控制上的應(yīng)用開展了仿真比較；設(shè)計(jì)和實(shí)現(xiàn)了基于專家PID算法的高真空磁控濺射鍍膜機(jī)溫度控制系統(tǒng)，該系統(tǒng)主要由專家PID智能溫控儀、晶閘管反并聯(lián)模塊、晶閘管控制電路、熱電偶等組成；討論了溫度控制系統(tǒng)及其各單元的結(jié)構(gòu)、工作原理和特性；溫度控制試驗(yàn)結(jié)果表明，自行設(shè)計(jì)的溫度控制系統(tǒng)的溫升曲線能 ...........共55頁(yè)

7、自動(dòng)鍍膜機(jī)智能控制系統(tǒng)研究 

　　研究了一種自動(dòng)鍍膜機(jī)系統(tǒng)的智能控制方法，主要應(yīng)用了自適應(yīng)模糊控制方法對(duì)該自動(dòng)鍍膜機(jī)系統(tǒng)實(shí)施控制，控制的目的是使自動(dòng)鍍膜機(jī)系統(tǒng)能夠等線速度運(yùn)行。由于該系統(tǒng)是一個(gè)非線性系統(tǒng)，而且存在參數(shù)的緩慢時(shí)變以及一些不確定因素的影響，很難建立jq的數(shù)學(xué)模型，傳統(tǒng)的控制策略很難達(dá)到控制要求，針對(duì)這樣一個(gè)系統(tǒng)采用了智能控制的方法來(lái)實(shí)現(xiàn)jq控制。根據(jù)該自動(dòng)鍍膜機(jī)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)建立了系統(tǒng)的動(dòng)態(tài)方程，給出了詳細(xì)的參數(shù)計(jì)算過(guò)程。針對(duì)該單輸入單輸出非線性不確定系統(tǒng)，利用模糊自適應(yīng)邏輯系統(tǒng)具有的逼近性 ...........共65頁(yè)

8、40kW中頻脈沖濺射電源設(shè)計(jì) |

　　利用移相軟開關(guān)技術(shù)設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)了20kHz中頻脈沖磁控濺射電源。該電源采用移相控制方式，實(shí)現(xiàn)IGBT的零電壓軟開關(guān)，大大降低了電源的開關(guān)損耗，提高了電源的效率。同時(shí)，采用20kHz的開關(guān)頻率，使電源具有較好的滅弧能力。利用輸出過(guò)電流保護(hù)點(diǎn)設(shè)置的方法，使輸出保護(hù)電流可調(diào)，并實(shí)現(xiàn)1μs時(shí)間迅速反應(yīng)的過(guò)電流保護(hù)，在電源自動(dòng)排除故障后，無(wú)需電源重啟動(dòng)，能迅速恢復(fù)正常工作。設(shè)計(jì)的多級(jí)保護(hù)功能使電源保護(hù)可靠、完善。在電源設(shè)計(jì)時(shí)，盡量考慮到EMC設(shè)計(jì)與電源的可靠性設(shè)計(jì)，增強(qiáng)電源的穩(wěn)定性，提高電源 ...........共40頁(yè)

9、雙路可控電源驅(qū)動(dòng)電路設(shè)計(jì)

　　介紹了國(guó)內(nèi)外幾種電鍍電源，并闡述了國(guó)內(nèi)外電鍍電源的發(fā)展?fàn)顩r；其次對(duì)電鍍用電源的基本要求、分類、工作原理及其特點(diǎn)進(jìn)行了較為全面的概述；詳細(xì)介紹了該雙路可控電源驅(qū)動(dòng)電路的主要性能指標(biāo)、功能描述。針對(duì)電鍍電源的控制系統(tǒng)，設(shè)計(jì)了由PIC16F877單片機(jī)為控制核心所組成的電源控制系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)了對(duì)電鍍電源的自動(dòng)控制。此系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)控制信號(hào)的傳遞，產(chǎn)生正確的輸出，并能夠產(chǎn)生占空比、幅值、頻率獨(dú)立可調(diào)的雙路可控電源驅(qū)動(dòng)電路。此驅(qū)動(dòng)電路能夠提高鍍件表面質(zhì)量，并且結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，可靠性高。通過(guò)PIC的硬件系統(tǒng)設(shè)計(jì)、PIC的軟件系統(tǒng)設(shè)計(jì)，{zh1}說(shuō) ...........共56頁(yè)

10、以陰極電弧電漿法於高速鋼SKH9被覆TiCrN鍍膜機(jī)械與磨潤(rùn)性能之探討

　　使用陰極電弧電漿法，在不同真空度下以鈦與鉻為靶材，高速鋼為基材，於高速鋼基材上被覆氮化鉻(CrN)、氮化鈦(TiN)與氮化鈦鉻(TiCrN)鍍膜，並使用自行研製機(jī)電控制式往復(fù)磨耗試驗(yàn)機(jī)以 ball-on-block方式探討在不同製程參數(shù)被覆鍍膜對(duì)表面結(jié)構(gòu)及機(jī)械性質(zhì)之影響，並以SEM與 EDS觀察表面型態(tài)及分析鍍膜成份。結(jié)果發(fā)現(xiàn)，鍍膜表面粗糙度以編號(hào) C4 (wt.%:Ti 60.48,Cr 16.59,N 22.93){zd1}，鍍膜硬度以編號(hào) A4 (wt.%:Ti 33.14,Cr 30.96,N 35.90)時(shí)可得到{zj0}硬度，附著力方面以編號(hào) A4 (wt.%:Ti 33.14,Cr 30.96,N 35.90)可得到{zj0}的附著力，摩擦係數(shù)以編號(hào) A3 (wt.%:Ti 7.19,Cr 51.59,N 41.22)時(shí)為{zd1}，磨耗率以編號(hào) A3 (wt.%:Ti 7.19,Cr 51.59,N 41.22)及 A4 (wt.%:Ti33 ...........共70頁(yè)

11、TPM在真空鍍膜生產(chǎn)中的應(yīng)用

　　簡(jiǎn)要介紹了 TPM 的理論及其發(fā)展歷程；在對(duì)公司鍍膜生產(chǎn)線上存 在的問(wèn)題進(jìn)行了分析、研究的基礎(chǔ)上，論證了 TPM 應(yīng)用項(xiàng)目導(dǎo)入的必要性 和可行性；導(dǎo)入和實(shí)施 TPM 項(xiàng)目的目的是，通過(guò)各種組織活動(dòng)來(lái)持續(xù)改進(jìn)，不斷xc生產(chǎn)過(guò)程中的浪費(fèi)，從而提升公司運(yùn)營(yíng)效率，降低成本。重點(diǎn)是總結(jié) TPM 應(yīng)用項(xiàng)目在公司鍍膜生產(chǎn)線中的實(shí)施， {dy}部分分析了作為TPM保障支柱的公司培訓(xùn)體系的現(xiàn)狀，通過(guò)對(duì)培訓(xùn)流 程和責(zé)任人的調(diào)整，有效控制了培訓(xùn)的流程，提高了培

12、磁約束磁控濺射源的關(guān)鍵技術(shù)研究

　　基于磁鏡原理設(shè)計(jì)出了一種新型的磁控濺射源——磁約束磁控濺射源。磁鏡是在空間形成了一個(gè)兩端強(qiáng)中間弱的磁場(chǎng),它將運(yùn)動(dòng)著的電子和離子約束在中間磁場(chǎng)較弱的區(qū)域。本裝置將磁鐵沿水平方向分置在靶材兩側(cè),在靶材上方形成磁約束磁場(chǎng),等離子體被約束在靶面的上方區(qū)域,在電場(chǎng)的作用下,實(shí)現(xiàn)離子對(duì)靶面的大范圍濺射。通過(guò)對(duì)已有磁約束磁控濺射裝置的實(shí)驗(yàn),等離子體的區(qū)域有所擴(kuò)展,靶材利用率和濺射率得到了一定的提高,但是實(shí)驗(yàn)過(guò)程中發(fā)現(xiàn)有拉弧現(xiàn)象。為了解決拉弧問(wèn)題,并進(jìn)一步提高靶材利用率和濺射率,本文在原有磁約束磁控濺射裝置的基礎(chǔ)上,設(shè)計(jì)出了一種新型結(jié)構(gòu)的磁控濺射裝置,主

13、高精度卷繞真空鍍膜設(shè)備張力控制技術(shù)研究

　　張力控制是鍍膜、IC制造、印刷、纖維纏繞等工業(yè)設(shè)備中具有共性的基礎(chǔ)技術(shù)之一。隨著現(xiàn)代卷繞設(shè)備向高速、高精度方向發(fā)展，張力控制技術(shù)極其重要。由于大型機(jī)電張力設(shè)備結(jié)構(gòu)復(fù)雜、影響因素眾多，在不同工況下系統(tǒng)參數(shù)存在著較強(qiáng)的耦合性、非線性、時(shí)變性和不確定性；在基礎(chǔ)理論、檢測(cè)技術(shù)和控制策略等方面都還有許多問(wèn)題尚需解決，因此，機(jī)電系統(tǒng)張力控制問(wèn)題是擺在工程技術(shù)人員面前急需解決的重大研究課題之一。 真空鍍膜設(shè)備主要用于在PET、OPP、BOPP等塑料薄膜上連續(xù)蒸鍍單面金屬膜，該金屬膜可用于生產(chǎn)電容金屬化膜和包裝膜，在電子、包

14、離子束輔助沉積IAD真空鍍膜技術(shù)研究

　　在紅外光學(xué)系統(tǒng)中，絕大多數(shù)紅外光學(xué)元件必須鍍制減反射膜來(lái)降低表面反射損失，高性能的紅外減反射膜是紅外光學(xué)系統(tǒng)的一個(gè)關(guān)鍵部分。同時(shí)，由于使用環(huán)境惡劣，紅外光學(xué)元件通常除了必須具有較高的光學(xué)性能外，還必須具有較好的耐環(huán)境能力。 在紅外光譜區(qū)中經(jīng)常使用高折射率基片，比如鍺（n=4.0）等，由于光線在這些材料表面上的反射損耗特別嚴(yán)重，如果不鍍減反射膜，紅外光學(xué)元件是不能使用的（比如鍺片如果不鍍膜，其在8～12μm內(nèi)只有46％的透過(guò)率）。紅外鍺晶體光學(xué)零件在8～12μm減反射膜的膜層強(qiáng)度差是當(dāng)前國(guó)內(nèi)外薄膜光學(xué)亟待解決的一個(gè)難題，這是由于在　　 

15、雙H橋中頻磁控濺射電源研究

　　介紹主電路,主要介紹了主電路中的兩次逆變,其中逆變電路采用{zx1}的逆變思想(逆變電路串聯(lián)——雙H橋)和開關(guān)器件——雙絕緣柵型雙極晶體管IGBT。并詳細(xì)闡述了高頻變壓器的設(shè)計(jì)與制作方式。論述控制電路,由于提高逆變電源的頻率是減小逆變電源體積、xc噪聲的關(guān)鍵性問(wèn)題,先介紹了制約逆變器電源高頻化的主要因素——電力開關(guān)器件的工作狀態(tài),闡述了軟開關(guān)技術(shù)的起因和分類,詳細(xì)地介紹了軟開關(guān)技術(shù)的發(fā)展歷程和在各個(gè)階段的典型代表電路拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),指出了他們的優(yōu)缺點(diǎn)。在分析了限制逆變電源高頻化因素的基礎(chǔ)上,綜合了

16、真空鍍膜機(jī)用磁性液體真空密封裝置設(shè)計(jì)及實(shí)驗(yàn)研究

　　 對(duì)用于真空鍍膜機(jī)上的傳動(dòng)控制軸密封裝置進(jìn)行了設(shè)計(jì)，替代了原有的焊接金屬波紋管密封。（１）設(shè)計(jì)了極靴與{yj}磁鐵的結(jié)構(gòu)，探討了相關(guān)零部件在設(shè)計(jì)、加工、裝配過(guò)程中遇到的問(wèn)題，并給出了解決辦法。{zh1}還對(duì)密封裝置的設(shè)計(jì)方案進(jìn)行了可行性分析。（２）根據(jù)磁性液體密封裝置的實(shí)際情況，從電磁場(chǎng)基本理論出發(fā)，用磁矢量位法表述了磁性液體密封裝置磁場(chǎng)一般的邊界條件。根據(jù)所推導(dǎo)的邊界條件，使用ＡＮＳＹＳ有限元fxrj，對(duì)本文設(shè)計(jì)的磁性液體密封裝置進(jìn)行計(jì)算，得出了磁性液體密封裝置的磁場(chǎng)分布。（３）對(duì)所設(shè)計(jì)的磁性液體密封裝置進(jìn)行了真空密封

17、真空鍍膜設(shè)備卷繞系統(tǒng)張力控制技術(shù)研究 

　　卷繞張力控制技術(shù)是真空鍍膜機(jī)中的關(guān)鍵技術(shù)，卷繞張力控制的精度、穩(wěn)定性直接影響真空鍍膜機(jī)對(duì)原料膜的適應(yīng)能力和產(chǎn)品的質(zhì)量。此次設(shè)計(jì)的目標(biāo)是通過(guò)對(duì)鋅鋁復(fù)合超薄電容膜設(shè)備的研制，對(duì)高速、低張力等極端情況下張力控制的分析研究，找到一套適合的張力控制模式，設(shè)計(jì)出一套用于gd電容金屬化膜生產(chǎn)的卷繞張力控制系統(tǒng)。本次真空鍍膜機(jī)卷繞系統(tǒng)控制方案：放卷和收卷均采用全自動(dòng)閉環(huán)式直接張力控制方式及主輥速度控制模式，在控制中采用ＰＩＤ調(diào)節(jié)。卷繞系統(tǒng)張力控制實(shí)現(xiàn)的方式：采用ＰＬＣ加開放式現(xiàn)場(chǎng)總線ＣＣ．ＬＩＮＫ的方式

18、塑料瓶?jī)?nèi)壁非晶碳鍍膜機(jī)
19、蒸發(fā)磁控真空鍍膜機(jī)
20、制備泡沫導(dǎo)電膜卷繞式真空鍍膜機(jī)
21、水平式薄膜鍍膜機(jī)
22、分立雙室離子鍍膜機(jī)
23、用于真空鍍膜工藝光束共蒸發(fā)專用裝置
24、真空鍍膜軸向運(yùn)動(dòng)控制裝置
25、真空鍍膜機(jī)循環(huán)裝片裝置
26、鈦鋁涂層用多弧離子鍍膜機(jī)
27、用于有機(jī)電致發(fā)光鍍膜機(jī)坩鍋式蒸發(fā)源
28、具有自動(dòng)識(shí)別功能有機(jī)發(fā)光鍍膜機(jī)基片小擋板
29、鋅鋁真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)
30、平面離子源增強(qiáng)沉積鍍膜機(jī)
31、用于有機(jī)電致發(fā)光鍍膜機(jī)坩鍋式蒸發(fā)源
32、具有自動(dòng)識(shí)別功能有機(jī)發(fā)光鍍膜機(jī)基片小擋板
33、自動(dòng)鍍膜多弧離子鍍膜機(jī)
34、鋅鋁真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)
35、雙室真空鍍膜裝置
36、多功能卷繞鍍膜機(jī)
37、一種用于熱蒸發(fā)型真空鍍膜設(shè)備熱蒸發(fā)源
38、納米離子低溫鍍制金剛石膜鍍膜機(jī)
39、有定向與自控制功能真空鍍膜機(jī)
40、一種卷繞式鋁-鋅鋁真空鍍膜機(jī)
41、隧道式超真空鍍膜機(jī)
42、真空鍍膜機(jī)中修正擋板自動(dòng)切換裝置
43、一種配置氣體離子源真空離子鍍膜機(jī)
44、濺射式鍍膜機(jī)用靶材結(jié)構(gòu)
45、有定向與自控制功能真空鍍膜機(jī)
46、一種卷繞式鋁-鋅鋁真空鍍膜機(jī)
47、一種適應(yīng)不同樣品鍍膜機(jī)工件架
48、加有射頻等離子體聚合蒸發(fā)鍍膜機(jī)
49、立式雙室雙面鍍磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)
50、真空離子鍍膜機(jī)
51、隧道式超真空鍍膜機(jī)
52、一種真空鍍膜機(jī)用加熱罐
53、真空鍍膜機(jī)抽氣系統(tǒng)
54、雙室真空鍍膜機(jī)
55、真空鍍膜機(jī)用多路閥
56、真空鍍膜機(jī)加熱裝置
57、{gx}式真空鍍膜旋轉(zhuǎn)支架
58、內(nèi)壁鍍膜介電管真空鍍膜設(shè)備
59、鍍膜機(jī)真空反應(yīng)室
60、高真空蒸發(fā)雙面金屬化鍍膜機(jī)
61、用真空鍍膜機(jī)制作鍍膜裝飾玻璃方法
62、帶有可轉(zhuǎn)動(dòng)磁控管大面積組件鍍膜機(jī)
63、在陶瓷釉面磚上制備納米薄膜方法與納米薄膜鍍膜機(jī)
64、臥式電子束蒸發(fā)式真空鍍膜機(jī)
65、內(nèi)藏靜電除塵機(jī)構(gòu)連續(xù)式真空鍍膜機(jī)
66、一種新型真空鍍膜機(jī)
67、真空鍍膜機(jī)用成型鍍膜靶材
68、玻璃鍍膜機(jī)
69、一種用于真空鍍膜領(lǐng)域傳動(dòng)裝置
70、七彩變色玻璃真空鍍膜機(jī)
71、一種具有在線清洗功能陽(yáng)極裝置與設(shè)有該裝置鍍膜機(jī)
72、轉(zhuǎn)動(dòng)工件實(shí)時(shí)測(cè)溫裝置與使用該裝置真空鍍膜系統(tǒng)
73、納米薄膜鍍膜機(jī)
74、一種真空鍍膜系統(tǒng)
75、一種積木式多用途真空鍍膜機(jī)
76、一種真空鍍膜水鉆
77、一種真空鍍膜系統(tǒng)
78、磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)
79、加快鍍膜機(jī)真空室達(dá)到高空度方法
80、鍍膜用轉(zhuǎn)盤與鍍膜機(jī)
81、一種液體鍍膜工藝與離心鍍膜機(jī)
82、高速卷繞多層電容薄膜鍍膜機(jī)與其工藝流程
83、鍍膜用基片夾具鍍膜用轉(zhuǎn)盤與鍍膜機(jī)
84、磁控濺射鍍膜機(jī)永磁槍靶裝置
85、一種三靶磁控濺射鍍膜機(jī)
86、一種設(shè)有防漏裝置真空鍍膜機(jī)
87、真空鍍膜機(jī)防漏裝置
88、一種卷繞鍍膜機(jī)
89、一種連續(xù)真空鍍膜裝置
90、高真空卷式鍍膜機(jī)構(gòu)
91、金屬板帶真空鍍膜設(shè)備
92、磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)
93、磁控濺射鍍膜機(jī)永磁槍靶裝置
94、一種真空立式鍍膜機(jī)工件轉(zhuǎn)架
95、真空鍍膜機(jī)多級(jí)行星式工件架
96、液體鍍膜工藝用離心鍍膜機(jī)
97、高速卷繞多層電容薄膜鍍膜機(jī)
98、真空桶式鍍膜機(jī)
99、電熱膜鍍膜機(jī)
100、一種用于光學(xué)輔助鍍膜機(jī)中離子源陽(yáng)極
101、超大型等離子真空鍍膜裝置
102、改進(jìn)等離子真空鍍膜裝置
103、一種玻璃真空鍍膜工件架
104、金屬內(nèi)管雙通式真空鍍膜集熱管
105、真空內(nèi)鍍膜機(jī)與其使用方法
106、一種用于顆粒表面改性等離子鍍膜裝置
107、一種真空多弧離子鍍膜機(jī)智能一體化控制器
108、一種鍍膜機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)支架
109、一種新型鍍膜機(jī)
110、真空鍍膜箱
111、真空鍍膜用“U”形真空室
112、真空鍍膜用自降溫傳動(dòng)軸
113、真空鍍膜機(jī)鍍件放置網(wǎng)框
114、鍍膜裝置
115、管道內(nèi)表面清洗和鍍膜技術(shù)與裝置
116、傾斜沉積鍍膜裝置
117、一種高溫加熱真空蒸發(fā)鍍膜裝置
118、多工位軸瓦磁控濺射鍍膜裝置
119、實(shí)現(xiàn)超高真空半導(dǎo)體外延片解理和腔面多層鍍膜系統(tǒng)
120、一種濺射鍍膜裝置和方法
121、管狀工件內(nèi)面鍍膜方法
122、復(fù)合式鍍膜裝置與方法
123、散熱模塊表面鍍膜方法與鍍膜散熱模塊
124、一種真空鍍膜成圖方法專用設(shè)備與制品
125、形成金屬玻璃鍍膜靶材與該靶材形成復(fù)合材料
126、一種鋁加厚金屬化電容器用薄膜真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)
127、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)表面鍍膜方法
128、表面氮化鉻鍍膜方法
129、真空磁控鍍膜室中遮擋裝置
130、鍍膜用旋轉(zhuǎn)濺射陰極裝置
131、一種連續(xù)卷繞式磁控濺射真空鍍膜裝置
132、鍍膜支架
133、鍍膜裝置
134、光學(xué)鍍膜裝置
135、鍍膜裝置
136、鍍膜設(shè)備
137、遮光元件與其鍍膜方法
138、鍍膜裝置
139、鍍膜治具鍍膜裝置與鍍膜方法
140、鍍膜裝置
141、鍍膜工件承載裝置與鍍膜方法
142、光學(xué)鍍膜裝置
143、一種鍍膜機(jī)轉(zhuǎn)架
144、一種光學(xué)鍍膜機(jī)
145、鍍膜機(jī)快卸式噴銀口擋板結(jié)構(gòu)
146、鍍膜機(jī)六鍍頭式電極結(jié)構(gòu)
147、鍍膜機(jī)防屑型抽真空口結(jié)構(gòu)
148、鍍膜機(jī)噴銀口擋板關(guān)閉時(shí)間jq控制電路
149、傾斜沉積鍍膜裝置
150、一種固定式屏蔽濺鍍鍍膜機(jī)
151、一種鋁加厚金屬化電容器用薄膜真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)
152、可調(diào)沉積速率真空鍍膜機(jī)擋板
153、在帶狀纖維織物上磁控濺射納米銀卷繞鍍膜機(jī)
154、一種真空離子鍍膜機(jī)
155、真空離子鍍膜機(jī)掛桿懸掛裝置
156、真空離子鍍膜機(jī)
157、真空離子鍍膜機(jī)自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)
158、具有真空蒸鍍膜生物降解性樹脂容器和真空蒸鍍膜形成方法
159、網(wǎng)處理方法處理槽連續(xù)電解電鍍裝置與帶有電鍍膜塑料膜制造方法
160、用于在金屬帶上沉積合金鍍膜工業(yè)蒸汽發(fā)生器
161、鍍膜設(shè)備框架式真空室
162、鍍膜玻璃除膜機(jī)
163、一種鋼領(lǐng)真空離子鍍膜制備方法
164、真空離子濺射鍍膜在IML工藝中應(yīng)用方法
165、一種真空離子鍍膜方法
166、一種模塊化太陽(yáng)能選擇性涂層連續(xù)鍍膜設(shè)備
167、鍍膜板與鍍膜板制備方法
168、一種導(dǎo)電玻璃在線鍍膜方法與在線鍍膜裝置
169、一種導(dǎo)電玻璃在線鍍膜方法與在線鍍膜裝置
170、一種平板顯示材料多功能鍍膜生產(chǎn)線
171、真空鍍膜裝置與鍍膜方法
172、脈沖加熱多匣式化學(xué)氣相沉積p-i-n鍍膜裝置
173、鍍膜附著力測(cè)量方法與測(cè)量裝置
174、高透可鋼化低輻射鍍膜玻璃與其制造方法
175、太陽(yáng)能選擇性吸收膜連續(xù)卷繞鍍膜裝置
176、金屬薄板帶連續(xù)進(jìn)行表面真空鍍膜裝置
177、遮罩組件以與鍍膜機(jī)臺(tái)
178、多功能磁控濺射鍍膜裝置
179、卷繞鍍膜前處理工藝與裝置
180、真空鍍膜用處理裝置
181、彩色圖案鍍膜工藝
182、一種用于半導(dǎo)體激光器腔面鍍膜裝置和方法
183、一種連續(xù)式真空鍍膜方法與其專用設(shè)備
184、用真空鍍膜機(jī)制作金色紫色鏡子方法
185、用于真空鍍膜水平方向公自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)
186、一體化超聲噴霧熱解大面積寬溫區(qū)鍍膜裝置
187、彎鋼化玻璃外弧面鍍膜方法與其制備低輻射鍍膜玻璃
188、鍍膜玻璃與其制造方法
189、釩基多元鍍膜液和復(fù)合薄膜與其制備方法和應(yīng)用
190、鍍膜原料收容裝置
191、鍍膜裝置
192、深孔內(nèi)壁電弧離子鍍膜方法
193、車燈鍍膜組合工藝
194、制備鉻鍍液方法和形成鍍膜方法
195、大型復(fù)雜曲面制件磁控濺射鍍膜機(jī)
196、三靶多支太陽(yáng)能集熱管鍍膜機(jī)
197、一種帶有補(bǔ)償斜靶真空磁控濺射鍍膜機(jī)
198、多功能磁控濺射連續(xù)鍍膜機(jī)
199、新型鍍膜機(jī)工轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)
200、一種光學(xué)鍍膜機(jī)超凈臺(tái)
201、一種真空內(nèi)鍍膜機(jī)
202、高速高真空在線分切同步多收卷卷繞鍍膜機(jī)
203、雙冷卻鍍膜輥懸浮真空連續(xù)卷繞鍍膜機(jī)
204、一種真空鍍膜機(jī)滾筒靜電裝置
205、一種真空鍍膜機(jī)蒸發(fā)器
206、一種柔性基材卷繞鍍膜機(jī)冷鼓系統(tǒng)
207、帶材鍍膜機(jī)
208、{gx}太陽(yáng)能集熱管鍍膜機(jī)
209、鍍膜機(jī)電磁加熱器
210、太陽(yáng)能電池鍍膜機(jī)石墨板掛鉤
211、三室兩鎖太陽(yáng)能集熱管鍍膜機(jī)
212、新型多用途鍍膜機(jī)轉(zhuǎn)架
213、一種塑料裝飾品真空鍍膜機(jī)
214、一種光纖端面鍍膜方法
215、太陽(yáng)能集熱板條陽(yáng)極鍍膜生產(chǎn)工藝
216、一種提高低輻射鍍膜玻璃生產(chǎn)效率方法
217、自動(dòng)太陽(yáng)能玻璃鍍膜設(shè)備
218、超聲波樣品臺(tái)以與用其進(jìn)行粉體磁控濺射鍍膜方法
219、二氧化釩薄膜鍍膜液和薄膜制備方法與應(yīng)用
220、一種鍍膜玻璃生產(chǎn)方法和生產(chǎn)設(shè)備
221、滾筒式樣品臺(tái)以與用其進(jìn)行粉體顆粒磁控濺射鍍膜方法
222、蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
223、一種樹脂鏡片有機(jī)玻璃鏡片表面超硬涂層鍍膜方法
224、一種提高錫基低輻射鍍膜玻璃生產(chǎn)效率方法
225、鍍膜蓋板與采用該鍍膜蓋板手機(jī)
226、光學(xué)鍍膜測(cè)量系統(tǒng)反射式光路裝置
227、卷繞式真空鍍膜設(shè)備
228、適用于槽式太陽(yáng)能熱發(fā)電集熱管內(nèi)管與其鍍膜方法
229、電場(chǎng)約束等離子體線性反應(yīng)濺射鍍膜陰極裝置
230、快換式硅片鍍膜對(duì)稱掛鉤組件與其安裝方法
231、磁控濺射鍍膜陰極裝置
232、用于半導(dǎo)體太陽(yáng)能鍍膜工藝腔室
233、鍍膜玻璃薄膜缺陷在線檢測(cè)方法與裝置
234、電容觸摸屏鍍膜生產(chǎn)工藝
235、真空鍍膜機(jī)擴(kuò)散泵循環(huán)冷卻水系統(tǒng)

本套《真空鍍膜機(jī)、鍍膜工藝、磁控濺射鍍膜機(jī)專利資料匯編》技術(shù)資料光盤均含實(shí)用新型和科研成果，資料中有技術(shù)資料全文、技術(shù)說(shuō)明書、技術(shù)配方、技術(shù)關(guān)鍵、工藝流程、圖紙、質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)、專家姓名等詳實(shí)資料。本套資料售價(jià)（280元）包特快專遞2-4天到貨
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