東莞市鼎偉靶材有限公司是專業(yè)生產(chǎn)純金屬材料，蒸鍍膜材料以及濺射靶材的技術(shù)企業(yè)應(yīng)用的科技型民營股份制工貿(mào)有限公司。公司以青島大學(xué)和青島科技大學(xué)蒸材料專業(yè)為技術(shù)依托，擁有多名中級(jí)專業(yè)技術(shù)人員和專業(yè)化應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室，有很強(qiáng)的蒸材料能力。公司先后研的蒸材料、濺射靶材系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用到國內(nèi)外眾多知名子、太陽能企業(yè)當(dāng)中，以較的價(jià)比，成功替代了國外進(jìn)口產(chǎn)品，頗受用戶好評。

宜賓銅鎵合金靶材

東莞市鼎偉靶材有限公司

聯(lián)系人：肖先生

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公司主要經(jīng)營產(chǎn)品： 

一、真空鍍膜材料 

1．純真空濺射靶材（99.9％——99.999％）

純金屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……

多元合金靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……

陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等… 

稀土金屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等… 

稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶 

金屬膜阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材：

金屬膜阻器用靶材括阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。

2．純光學(xué)鍍膜材料（99.99％——99.999％）

氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等… 

氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等… 

硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…T18919837845(不是聯(lián)系方式)

磁控濺射鍍膜是一種物lq相鍍膜方式，現(xiàn)技術(shù)已較為成熟，主要應(yīng)用于以下領(lǐng)域：裝飾薄膜靶材，建筑玻璃、汽車玻璃、低輻射玻璃，平面顯示器，光通訊/光學(xué)工業(yè)，光數(shù)據(jù)存儲(chǔ)工業(yè)，光數(shù)據(jù)存儲(chǔ)工業(yè)，磁數(shù)據(jù)存儲(chǔ)工業(yè)磁控濺射原理  在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個(gè)正磁場和場，在真空室中充入所需要的惰氣體(通常為Ar氬氣)，{yj}磁鐵在靶材料表面形成250～350斯的磁場，同壓場組成正磁場。在場的作用下，Ar氣離成正離子和子，靶加有一定的負(fù)壓，從靶極出的子受磁場的作用與工作氣體的離幾率大，在陰極附近形成密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很的速度轟擊靶面，使靶被濺射出來的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。 磁控濺射一般分為二種：流濺射和射頻濺射，其中流濺射設(shè)備原理簡單，在濺射金屬時(shí)，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導(dǎo)材料外，也可濺射非導(dǎo)的材料，同時(shí)還司進(jìn)行反應(yīng)濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提后就成為波等離子體濺射，目前常用的有子回旋共振(ECR)型波等離子體濺射

氧化鋯陶瓷        

濺射靶材          

黃金靶材    

工業(yè)陶瓷       

靶材廠家      

靶材          

氧化鋯陶瓷棒      

機(jī)械陶瓷配件  

子槍燈絲         

【原創(chuàng)內(nèi)容】
路進(jìn)行判斷。在確定陰極不存在短路后，可以進(jìn)行檢漏檢查，將水通入陰極確定是否存在漏水現(xiàn)象。五、靶材預(yù)濺射靶材預(yù)濺射建議采用純氬氣進(jìn)行濺射，可以起到清潔靶材表面的作的保護(hù)手套，{jd1}避免用手直接接觸靶材二、靶材清潔靶材清潔的目的是去除靶材表面可能存在的灰塵或污垢。金屬靶材可以通過四步清潔，{dy}步用在中浸泡過的無絨軟布清潔；直接影響真空度獲得和加成膜失敗的可能。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化學(xué)雜質(zhì)含量超標(biāo)經(jīng)常是由于不潔凈的濺射室、濺射槍和靶材引起的。為保持鍍膜的成分特，濺射直接影響真空度獲得和加成膜失敗的可能。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化學(xué)雜質(zhì)含量超標(biāo)經(jīng)常是由于不潔凈的濺射室、濺射槍和靶材引起的。為保持鍍膜的成分特，濺射路進(jìn)行判斷。在確定陰極不存在短路后，可以進(jìn)行檢漏檢查，將水通入陰極確定是否存在漏水現(xiàn)象。五、靶材預(yù)濺射靶材預(yù)濺射建議采用純氬氣進(jìn)行濺射，可以起到清潔靶材表面的作和背靶避免在運(yùn)輸和儲(chǔ)存過程中生損壞。一、濺射準(zhǔn)備保持真空腔體尤其是濺射系統(tǒng)潔凈是非常重要的。任何由潤滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會(huì)收集水氣及其他污染物，要確保在靶材和濺射槍冷卻壁之間建立很好的導(dǎo)熱連接。如果用冷卻壁的翹曲程度嚴(yán)重或背板翹曲嚴(yán)重會(huì)造成靶材安裝時(shí)生裂或彎曲，背靶到靶材的導(dǎo)熱能就會(huì)受到很大的影響，平整度，同時(shí)確保O型密封圈始終在位置。四、短路及密封檢查靶材完成安裝后需要對整個(gè)陰極進(jìn)行短路檢查及密封檢查，建議通過使用阻儀搖表的方式對陰極是否存在短