在配方2溶液中氧化處理后零件應(yīng)立即用冷水清洗干凈，然后用重鉻酸鉀40～50g/L溶液填充處理（PH=4.5～6.5時(shí)用碳酸鈉調(diào)整），溫度90～95℃,時(shí)間5～10分鐘，清洗后在70℃烘干。③配方3溶液中得到的氧化膜為無色透明，厚度約0.3～0.5微米，膜層導(dǎo)電性好，主要用于變形的鋁制電器零件。

氧化膜的生長(zhǎng)過程就是氧化膜不斷生成和不斷溶解的過程。一段a（曲線ab段）：無孔層形成。通電剛開始的幾秒到幾十秒時(shí)間內(nèi)，鋁表面立即生成一層致密的、具有高絕緣性能的氧化膜，厚度約0.01～0.1微米，為一層連續(xù)的、無孔的薄膜層，稱為無孔層或阻擋層，此膜的出現(xiàn)阻礙了電流的通過和膜層的繼續(xù)增厚。無孔層的厚度與形成電壓成正比，與氧化膜在電解液中的溶解速度成反比。因此，曲線ab段的電壓就表現(xiàn)出由零急劇增至大值。

陽極氧化：鋁是比較活潑的金屬，標(biāo)準(zhǔn)電位-1.66v，在空氣中能自然形成一層厚度約為0.01～0.1微米的氧化膜，這層氧化膜是非晶態(tài)的，薄而多孔，耐蝕性差。但是，若將鋁及其合金置于適當(dāng)?shù)碾娊庖褐?，以鋁制品為陽極，在外加電流作用下，使其表面生成氧化膜，這種方法稱為陽極氧化。