實(shí)貝PVD-100WY真空無(wú)氧烤箱450℃
真空無(wú)氧烤箱
應(yīng)用范圍：
主要用于航空、航天、石油、化工、電子、通訊、船舶、軍事等科研部門作無(wú)氧化干燥、烘培、熱處理的要求。無(wú)氧化烘箱，在工作時(shí)，工作室內(nèi)充滿了惰性氣體CO2,N2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無(wú)氧化烘箱在工業(yè)中的用途：IC包裝、LCD、晶體管、傳感器、二極管、石英晶體振蕩器、混合集成電路板等。
滿足試驗(yàn)方法：
GB/T 2423.2-2008 電工電子產(chǎn)品環(huán)境試驗(yàn) 第2部分：試驗(yàn)方法 試驗(yàn)B：高溫
GJB150.3A-2009高溫試驗(yàn)方法
GB2423.22-2008電工電子產(chǎn)品環(huán)境試驗(yàn) 第2部分 試驗(yàn)方法 試驗(yàn) Nb：規(guī)定溫度變化速率的溫度變化
GBT 2424.5-2006 電工電子產(chǎn)品環(huán)境試驗(yàn) 溫度試驗(yàn)箱性能確認(rèn)。
規(guī)格型號(hào)（參考）
技術(shù)規(guī)格參數(shù):
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名稱
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真空無(wú)氧烤箱
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型號(hào)
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PVD-100WY
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PVD-216WY
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工作室尺寸
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450×450×500
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600×600×600
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外形尺寸
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950×1000×1300
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1450×1170×1800
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電源功率
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AC380V/50Hz 約6KW
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AC380V/50Hz 約9KW
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溫度范圍
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RT+10～450℃（常用400℃以下）
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溫度分辨率
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0.1℃
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溫度偏差
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≤2.0℃
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溫度波動(dòng)度
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≤±1.0℃
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溫度均勻性
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≤±2℃%
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升溫速率
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≤10℃/min
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降溫速率
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400℃～80℃≤2.5h
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降溫方式
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風(fēng)冷+水冷（選配）
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真空度
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<133Pa
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真空泵
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TS300（安捷倫）或10i、15i干泵（愛德華）選配
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氧濃度含量
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常溫下≤50PPM、高溫下≤30PPM
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氮?dú)饪刂?span>
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雙通道氮?dú)饬髁坑?jì)，無(wú)氧、低氧環(huán)境下節(jié)省氮?dú)庀牧?span>
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載物托架
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2 PCS
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狀態(tài)指示燈
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三色指示燈及蜂鳴器來(lái)提示機(jī)臺(tái)運(yùn)行狀態(tài)
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潔凈度
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進(jìn)氣氣路加過濾器達(dá)到Class100級(jí)（選配）
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噪音
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小于 75db(A)
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控制系統(tǒng)
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PLC系統(tǒng)控制溫度、壓力、充氮
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溫度控制儀
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可編程溫控儀表，可校準(zhǔn)溫度，PID自整定等功能，溫度可與PLC聯(lián)動(dòng)
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氧含量監(jiān)測(cè)
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日本進(jìn)口品牌（選配）
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