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河北某大學實驗室在研究 IGZO 薄膜的特性試驗中采用伯東 KRI 考夫曼 RFICP140 作為濺射源, 濺射沉積半導體 IGZO 薄膜.
伯東 KRI 考夫曼 RFICP140 技術參數(shù):
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型號 |
RFICP140 |
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Discharge |
RFICP 射頻 |
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離子束流 |
>600 mA |
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離子動能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
14 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
5-30 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長度 |
24.6 cm |
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直徑 |
24.6 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
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試驗采用射頻（RF）磁控濺射沉積方法, 在室溫不同壓強下在石英玻璃襯底上制備出高透光率與較好電學性質的透明氧化物半導體 InGaZnO4（IGZO）薄膜, 并對薄膜進行X線衍射（XRD）、生長速率、電阻率和透光率的測試與表征.
結果表明:
實驗所獲樣品 IGZO 薄膜為非晶態(tài), 薄膜最小電阻率為1.3×10^-3Ω·cm, 根據(jù)光學性能測試結果, IGZO 薄膜在 200～350nm 的紫外光區(qū)有較強吸收, 在 400～900nm 的可見光波段的透過率為75％～97％.
相比傳統(tǒng)的有以下優(yōu)點：
更小的晶體尺寸, 設備更輕薄；全透明, 對可見光不敏感, 能夠大大增加元件的開口率, 提高亮度, 降低功耗的電子遷移率大約為, 比傳統(tǒng)材料進步非常明顯, 面板比傳統(tǒng)面板有了的提升.
KRI 的獨特功能實現(xiàn)了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 技術的情況下是無法實現(xiàn)的.
KRI 是領域公認的領者, 已獲得許多專利. KRI 已應用于許多已成為行業(yè)標準的過程中.
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