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應(yīng)用于電子束蒸鍍?cè)O(shè)備 E-beam Evaporation System
特殊的系統(tǒng)設(shè)計(jì)電子束沉積是一種實(shí)用且高度可靠的系統(tǒng), 上海伯東某客戶電子束蒸鍍系統(tǒng)可針對(duì)量產(chǎn)使用單一大坩堝也可以有多個(gè)坩堝來(lái)達(dá)到產(chǎn)品多層膜結(jié)構(gòu), 在基板乘載上對(duì)應(yīng)半導(dǎo)體研究和大型設(shè)備設(shè)計(jì)單片和多片公自轉(zhuǎn)的設(shè)計(jì). 為了獲得最 大的制程靈活性, 可以結(jié)合進(jìn)行離子輔助沉積或者預(yù)清潔等功能.
----------- 電子束蒸鍍?cè)O(shè)備 E-beam Evaporation System ----------
上海伯東 KRI RFICP 參數(shù):
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型號(hào) |
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Discharge 陽(yáng)極 |
RF 射頻 |
RF 射頻 |
RF 射頻 |
RF 射頻 |
RF 射頻 |
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離子束流 |
>100 mA |
>350 mA |
>600 mA |
>800 mA |
>1500 mA |
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離子動(dòng)能 |
100-1200 V |
100-1200 V |
100-1200 V |
100-1200 V |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
4 cm Φ |
10 cm Φ |
14 cm Φ |
20 cm Φ |
30 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
3-10 sccm |
5-30 sccm |
5-30 sccm |
10-40 sccm |
15-50 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
< 0.5m Torr |
< 0.5m Torr |
< 0.5m Torr |
< 0.5m Torr |
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長(zhǎng)度 |
12.7 cm |
23.5 cm |
24.6 cm |
30 cm |
39 cm |
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直徑 |
13.5 cm |
19.1 cm |
24.6 cm |
41 cm |
59 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
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上海伯東美國(guó) KRI 提供, 和, 歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專利. 廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國(guó)中國(guó)總代理.
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