小型蒸鍍儀

我公司專為科研院所及實驗室用戶群體設計開發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。采用大抽速分子泵準無油高真空系統(tǒng)，機架電控一體化設計，整體布局緊湊合理，充分考慮人機工程學的傾斜操控面板和可直觀觀察蒸發(fā)狀態(tài)的玻璃真空室結(jié)構(gòu)相得益彰。兩組/三組蒸發(fā)源可兼容金屬、有機物蒸發(fā)。廣泛應用于高校、科研院所制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等，特別適合太陽能電池、有機EL、LED顯示管研究與開發(fā)領域。

主要特點/優(yōu)勢：

★     玻璃鐘罩真空腔室，最直觀的蒸發(fā)狀態(tài)和薄膜沉積現(xiàn)象觀察；

★     復合分子泵和直聯(lián)旋片泵，大抽速準無油真空系統(tǒng)（分子泵抽速≥400L/S）；

★     兩組水冷式蒸發(fā)電極，可長時間穩(wěn)定工作，兼容金屬材料與有機材料的蒸發(fā)源設計；

★     專業(yè)真空蒸發(fā)電源，數(shù)顯工作電流和電壓，恒流輸出；

★     可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；

★     襯底可選擇加熱或水冷，源基距≥300mm；

★     可調(diào)速旋轉(zhuǎn)靶臺使薄膜更均勻

★     可沉積金屬（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金屬、化合物（MoO₃, LiF等）及有機物材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；

★  7寸顯示器定時定點調(diào)節(jié)電流，達到控制功率效果

★  具有記憶儲存功能，直接調(diào)出已儲存的數(shù)據(jù)進行鍍膜達到同樣工藝效果

★  配置了靶臺擋板，可手動調(diào)節(jié)或自動調(diào)節(jié)擋板，及時遮擋樣品，保證樣品效果